LA DESCRIPTION
Fournit un environnement expérimental avec vide, atmosphère contrôlée et haute température.
Ce système de croissance CVD convient aux processus CVD, tels que le revêtement de carbure de silicium, les tests de conductivité des substrats céramiques, la croissance contrôlée des nanostructures de ZnO et les expériences de frittage en atmosphère MLCC.