LA DESCRIPTION
Le système CVD (CVD-TF) pour four tubulaire sous vide/atmosphère à 1 600 °C offre un environnement expérimental avec vide, atmosphère contrôlable et haute température. Il est utilisé dans les domaines des semi-conducteurs, de la nanotechnologie, des fibres et d'autres domaines. Ce système de croissance CVD convient aux processus CVD, tels que le revêtement en carbure de silicium, le test de conductivité des substrats en céramique, la croissance contrôlable des nanostructures de ZnO, le frittage sous atmosphère de condensateurs en céramique (MLCC) et d'autres expériences.