LA DESCRIPTION
Fournir un environnement expérimental avec vide, atmosphère contrôlable et haute température, utilisé dans les semi-conducteurs, la nanotechnologie, la fibre de carbone et d'autres domaines.
Ce système de croissance CVD convient aux processus CVD, tels que le revêtement de carbure de silicium, les tests de conductivité des substrats céramiques, la croissance contrôlée des nanostructures de ZnO et les expériences de frittage en atmosphère MLCC.